工业制粗硅（工业硅用途）

老铁们，大家好，相信还有很多朋友对于工业制粗硅和工业硅用途的相关问题不太懂，没关系，今天就由我来为大家分享分享工业制粗硅以及工业硅用途的问题，文章篇幅可能偏长，希望可以帮助到大家，下面一起来看看吧！

本文主要内容一览

• 1、四氯化碳和三氯硅烷反应
• 2、硅冶炼工是从事什么工作的
• 3、工业制粗硅的两种方程式我要的是电炉和高温的
• 4、工业上制备粗硅的化学方程式

工业制粗硅（工业硅用途）

反应">1四氯化碳和三氯硅烷反应

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题目内容

硅单质及其化合物应用范围很广．三氯硅烷（SiHCl3）还原法是目前工业制高纯度硅的主要方法，生产过程如下图：

根据题意完成下列备题：

（1）硅在元素周期表的位置______，其最外层有______种能量不同的电子．

（2）硅的气态氢化物为SiH4，其空间构型为______；三氯硅烷中某些元素最高价氧化物对应水化物的酸性______＞______（填化学式）．

（3）写出三氯硅烷与氢气反应的化学反应方程式：______．

（4）自然界中硅酸盐种类多，结构复杂，通常用二氧化硅和金属氧化物的形式来表示其组成．如正长石（KALSi3O8），氧化物形式为：______．

试题答案

解：（1）硅原子结构示意图为，硅在元素周期表的位置为第三周期，第ⅣA族，最外层4个电子分布在3S、3P轨道上，能量不同；

故答案为：第三周期，第ⅣA族；2；

（4）硅的气态氢化物为SiH4，据价层电子对互斥理论得n=4，SP3杂化，分子构型为正四面体，

（3）三氯硅烷与氢气反应生成硅和氯化氢，方程式为：SiHCl3+H2Si+3HCl；Si的非金属性小于Cl，所以最高价氧化物对应水化物的酸性HClO4＞H2SiO3；

故答案为：SiHCl3+H2Si+3HCl；HClO4；H2SiO3；

（4）正长石改写成氧化物的形式为：K2O?AL2O3?6SiO2，

故答案为：K2O?AL2O3?6SiO2；

分析：（1）先写出原子结构示意图，然后主族元素电子层数等于周期数，最外层电子数等于主族数，它们决定了主族元素在元素周期表中的位置；最外层4个电子分布在3S、3P轨道上；

（2）根据价层电子对互斥理论来判断；根据元素的非金属性越强，最高价氧化物对应水化物的酸性越强；

（3）根据流程图可知三氯硅烷与氢气反应生成硅和氯化氢；

（5）根据硅酸盐化学式可表示为活泼金属氧化物?金属氧化物?非金属氧化物?水进行解答；

点评：本题是一道有关硅和二氧化硅性质的综合题，难度中等，考查学生分析和解决问题的能力．

一题一题找答案解析太慢了

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硅单质及其化合物应用范围很广．

（1）制备硅半导体材料必须先得到高纯硅，工业上可以按如下步骤制备高纯硅．

Ⅰ．高温下用碳还原二氧化硅制得粗硅；

Ⅱ．粗硅与干燥的氯气在450～500℃条件下反应制得SiCl4；

Ⅲ．SiCl4液体经精馏提纯后与过量H2在1 100～1 200℃条件下反应制得高纯硅．

已知SiCl4沸点为57.6℃，能与H2O强烈反应．1mol H2与SiCl4气体完全反应吸收的热量为120.2kJ．

请回答下列问题：

①第Ⅲ步反应的热化学方程式为2H2（g）+SiCl4（g）

1100-1200℃

.

Si（s）+4HCl（g）△H=+240.4kJ?mol-1．

②整个制备纯硅的过程中必须严格控制在无水无氧的条件下．SiCl4在潮湿的空气中因水解而产生白色烟雾，其生成物是H2SiO3（或H4SiO4）和HCl；H2还原SiCl4过程中若混入O2，可能引起的后果是爆炸．

（2）二氧化硅被大量用于生产玻璃．工业上用SiO2、Na2CO3和CaCO3共283kg在高温下完全反应时放出CO2 44kg，生产出的玻璃可用化学式Na2SiO3?CaSiO3?xSiO2表示，则其中x=4．

（2008?广东）硅单质及其化合物应用范围很广．请回答下列问题：

（1）制备硅半导体材料必须先得到高纯硅．三氯甲硅烷（SiHCl3）还原法是当前制备高纯硅的主要方法，生产过程示意图如下：

①写出由纯SiHCl3制备高纯硅的化学反应方程式SiHCl3+H2

1357K

.

Si+3HCl．

②整个制备过程必须严格控制无水无氧．SiHCl3遇水剧烈反应生成H2SiO3、HCl和另一种物质，写出配平的化学反应方程式3SiHCl3+3H2O═H2SiO3+H2↑+3HCl；H2还原SiHCl3过程中若混O2，可能引起的后果是高温下，H2遇O2发生爆炸．

（2）下列有关硅材料的说法正确的是ABCD（填字母）．

A．碳化硅化学性质稳定，可用于生产耐高温水混

B．氮化硅硬度大、熔点高，可用于制作高温陶瓷和轴承

C．普通玻璃是由纯碱、石灰石和石英砂的，其熔点很高

D．盐酸可以与硅反应，故采用盐酸为抛光液抛光单晶硅

（3）硅酸钠水溶液俗称水玻璃．取少量硅酸钠溶液于试管中，逐滴加入饱和氯化铵溶液，振荡．写出实验现象并给予解释生成白色絮状沉淀，又刺激性气味的气体生成，SiO32-与NH4+发生双水解反应，SiO32-+2NH4++2H2O═2NH3?H2O+H2SiO3↓．

硅单质及其化合物应用范围很广．三氯硅烷（SiHCl3）还原法是目前工业制高纯度硅的主要方法，生产过程如下图：

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根据题意完成下列备题：

（1）硅在元素周期表的位置 ，其最外层有 种能量不同的电子．

（2）硅的气态氢化物为SiH4，其空间构型为 ；三氯硅烷中某些元素最高价氧化物对应水化物的酸性 ＞ （填化学式）．

（3）写出三氯硅烷与氢气反应的化学反应方程式： ．

（4）自然界中硅酸盐种类多，结构复杂，通常用二氧化硅和金属氧化物的形式来表示其组成．如正长石（KALSi3O8），氧化物形式为： ．

硅单质及其化合物应用范围很广。请回答下列问题：

（1）制备硅半导体材料必须先得到高纯硅。三氯甲硅烷（SiHCl3）还原法是当前制备高纯硅的主要方法，生产过程示意图如下：

①写出由纯SiHCl3制备高纯硅的化学反应方程式____________________________。

②整个制备过程必须严格控制无水无氧。SiHCl3遇水剧烈反应生成H2SiO3、HCl和另一种物质，写出配平的化学反应方程式_________________；H2还原SiHCl3过程中若混入O2，可能引起的后果是_________________________。

（2）下列有关硅材料的说法正确的是__________________（填字母）。

A.碳化硅化学性质稳定，可用于生产耐高温水泥

B.氮化硅硬度大、熔点高，可用于制作高温陶瓷和轴承

C.高纯度的二氧化硅可用于制造高性能通讯材料——光导纤维

D.普通玻璃是由纯碱、石灰石和石英砂制成的，其熔点很高

E.盐酸可以与硅反应，故采用盐酸为抛光液抛光单晶硅

（3）硅酸钠水溶液俗称水玻璃。取少量硅酸钠溶液于试管中，逐滴加入饱和氯化铵溶液，振荡。写出实验现象并给予解释_______________________________。

硅单质及其化合物应用范围很广。

（1）制备硅半导体材料必须先得到高纯硅，工业上可以按如下步骤制备纯硅：

Ⅰ.高温下用碳还原二氧化硅制得粗硅

Ⅱ.粗硅与干燥的氯气在450 ℃～500 ℃ 反应制得SiCl4

Ⅲ. SiCl4液体经精馏提纯后与过量H2在1100 ℃～1200 ℃ 反应制得纯硅

已知SiCl4沸点为57.6 ℃，能与H2O强烈反应。1 mol H2与SiCl4气体完全反应吸收的热量为120.2 kJ。请回答下列问题：

① 第Ⅰ步制备粗硅的化学反应方程式为 ，第Ⅲ步反应的热化学方程式是 。

②整个制备纯硅过程必须严格控制无水无氧。SiCl4在潮湿的空气中因水解而产生白色烟雾，其生成物是 ；H2还原SiCl4过程中若混O2，可能引起的后果是 。

（2）二氧化硅大量用于生产玻璃。工业上用SiO2、Na2CO3和CaCO3共283 kg在高温下完全反应时放出CO2 44 kg，生产出的玻璃可用化学式Na2SiO3·CaSiO3·xSiO2表示，则其中x＝ 。

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工业制粗硅（工业硅用途）

2硅冶炼工是从事什么工作的

从事的工作主要包括:(1)操作破碎、配料、混合等设备,将硅石、木炭、油焦等原料破碎、筛分、配合、混匀、输送;(2)操作、调控矿热炉,将原料熔炼成粗硅熔体;(3)操作出炉设备,将硅熔体放入台包;(4)操作精炼、浇铸等设备,将粗硅熔体制成工业硅成品;(5)使用工具、器械,将工业硅装袋,输送入库;(6)维护保养设备,处理故障。下列工种归入本职业：硅冶炼工(39-101)

3工业制粗硅的两种方程式我要的是电炉和高温的

我汗,你问的是一个方程式啊,电炉的目的就是高温.

这个就是以石英砂（SIO2）和C为原料在矿热炉（其中一个装置就是电炉）中炼制粗硅：

SiO2+2C=Si(粗硅)+2CO

炉料的配置一般为石英砂100公斤,碳质还原剂（可以为石油焦、木炭）30~50公斤.

矿热炉中的温度能达到1800℃.

这是粗硅的精炼：

Si+3HCl=SiHCl3+H2

SiHCl3+H2=Si+3HCl

4工业上制备粗硅的化学方程式

工业上用二氧化硅和碳高温反应生成粗硅和一氧化碳SiO2+2C==高温==Si+CO↑

祝学习愉快~别忘记给好评哟亲~