应用于半导体新材料和设备管道检漏方案（管道检漏仪的使用方法）

氦质谱检漏仪应用于半导体新材料和设备管道检漏上海伯东提供半导体新材料和设备管道检漏解决方案,助力企业生产高质量的六氯乙硅烷Si₂Cl₆.六氯乙硅烷广泛应用于有机硅化合物的合成,电子半导体材料制造.半导体新材料和设备检漏:提升产品良率半导体生产设备及其相关设施一般在真空环境下工作,任何一处出现泄漏都可能导致包括产量下降,产品不达标或严重安全风险.因此,在洁净室之内或在任何维护干预之后,密封性检漏是必须的步骤.上海伯东提供全面的氦质谱检漏解决方案,确保生产设施从工艺室到排气系统的真空完整性.检漏要求:高精度,清洁无油,快速检测,尽可能缩短停机时间在真空环境下工作的半导体制造设备氦质谱检漏方法:为了确保最终产品的质量,真空设施需要避免任何污染.在安装任何工具或者维护腔室之后,推荐使用检漏仪真空模式进行设备的密封性测试.氦质谱检漏仪在真空条件下直接连接到设备,通过将示踪气体氦气喷洒到可能泄漏源的周围(比如焊缝,接头,阀门等处),即可定位,定量检测到存在的漏点.真空模式下漏率1X10-10mbarl/s.在压力下工作的气体管路和机柜氦质谱检漏方法:由于工艺气体对自然环境的潜在危害,此类管线在投入运行前需要通过测试.推荐使用氦质谱检漏仪吸枪模式,要测试的管线在压力下充满氦气.检漏仪吸枪探头可以探测可能逸出的氦气.吸枪模式下,漏率1X10-8mbarl/s针对不同的工况,上海伯东提供合适的半导体设备检漏方案当复杂系统或大容量系统(例如处理室或前级管线)上发生泄漏时,需要大抽速检漏仪以加快泄漏检测过程,从而减少设备停机时间.推荐使用氦质谱检漏仪ASM390或ASM392对于过压系统或难以进入测试区域的情况,推荐便携式检漏仪ASM310提供较大灵活性的同时又不影响性能和灵敏度.

应用于半导体新材料和设备管道检漏方案（管道检漏仪的使用方法）

型号

ASM310

ASM340D

ASM390

图片

特点

便携式,清洁无油

多用途,清洁无油

大抽速,移动式,清洁无油符合SemiS2标准

最小检测漏率

真空模式:1X10-12mbarl/s吸枪模式:1X10-7mbarl/s

真空模式:1X10-12mbarl/s吸枪模式:1X10-9mbarl/s

真空模式:1X10-12mbarl/s吸枪模式:1X10-8mbarl/s

前级泵抽速

1.7m3/h

3.4m3/h

35m3/h

氦气抽速

1.1l/s

2.5l/s

10l/s

上海伯东德国Pfeiffer提供全系列氦质谱检漏仪,从便携式检漏仪到工作台式检漏仪满足各种不同的应用.氦质谱检漏仪替代传统泡沫检漏和压差检漏,利用氦气作为示踪气体可定位,定量漏点.氦质谱检漏仪满足单机检漏,也可集成在检漏系统或PLC.推荐氦质谱检漏仪应用>>若您需要进一步的了解氦质谱检漏仪,请参考以下联络方式上海伯东:罗小姐